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大清道光元年是哪一年,道光元年是哪一年到哪一年

大清道光元年是哪一年,道光元年是哪一年到哪一年 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界(jiè)4月24日消息,国(guó)家知识产权(quán)局局长申长雨在新闻(wén)发(fā)布会上表示(shì),将统(tǒng)筹推大清道光元年是哪一年,道光元年是哪一年到哪一年(tuī)进(jìn)各类知识产(chǎn)权法(fǎ)律(lǜ)法(fǎ)规和制度规则(zé)的制修订工作。其中,修改(gǎi)完善集(jí)成电路布(bù)图(tú)设计(jì)保护条例(lì),适应大规模(mó)集成电(diàn)路发展(zhǎn)需要,助(zhù)力芯片(piàn)产业做大(dà)做强,服务数字经济更好发展。

  加强(qiáng)大(dà)数据、人工智(zhì)能、基因(yīn)技术等新(xīn)领域(yù)新业态知(zhī)识产权规则研究,助力相关领(lǐng)域创新发展。同时,积极参与知识产(chǎn)权(quán)国际规(guī)则制定,更(gèng)好对接高标准国际经贸(mào)规则(zé),助力高水平对(duì)外开(kāi)放。

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