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幸会幸会后面接什么有趣,高情商回复幸会 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息(xī),国家知识产权(quán)局局长申(shēn)长雨在(zài)新(xīn)闻发布会上表(biǎo)示,将统筹推进各类知识产权(quán)法律法规(guī)和制度规(guī)则的制修(xiū)订工作。其中,修改完善集成电路(lù)布图(tú)设计保护条例(lì),适应大规模集成电路发展需要,助力芯片(piàn)产业做大做强(qiáng),服务数字经济更好(hǎo)发展。

  加强大数据、人工智(zhì)能、基因技(jì)术等新领(lǐng)域新业(yè)态知(zhī)识产权规则研究(jiū),助力相关领域创新发展。同时,积极参(cān)与知(zhī)识产权国际规则制定,更好(hǎo)对接高标准国际经贸规则,助力(lì)高水平对外开(kāi)放。幸会幸会后面接什么有趣,高情商回复幸会>

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